会员登录|免费注册|忘记密码|管理入口 返回主站||保存桌面|手机浏览|联系方式|购物车
企业会员第1年

伯东贸易(深圳)有限公司  
加关注0

电子设备、电子元件、玻璃光学系统配件、非可燃性环保冷媒的批发;提供佣金代理(拍卖除外)、进出口及其他相关配套服务(不含限制类商品)、提供有关售后服务及相关技术咨询服务(涉及配额许可证管理、专项规定管理的商品按照国家有关规定办理)

搜索
新闻分类
  • 暂无分类
联系方式
  • 联系人:张婷婷
  • 电话:0755-25473928
站内搜索
 
荣誉资质
  • 暂未上传
友情链接
  • 暂无链接
首页 > 公司新闻 > KRI 霍尔离子源应用于黑膜镀制
公司新闻
KRI 霍尔离子源应用于黑膜镀制
2023-12-01IP属地 火星11

   

     黑膜镀制是指将入射到材料表面的光线包括紫外光、可见光、近红外光以及中远红外波段的光几乎全部吸收而基本没有反射的表面处理技术超高的吸收率使黑膜有着广阔的应用前景如可在精密光学仪器和光学零件、医疗仪器、航空航天、外观装饰品等产品上得到广泛使用可大幅度提高产品品质开拓新的产品方向.

    然而由于传统黑色表面处理工艺存在膜层太厚、粗糙多孔、结合力不佳、高低温环境不稳定、有害有机物释放、制备过程有大量污染物产生等问题因此探索黑膜镀制工艺升级是大势所趋上海伯东某客户借助 KRI 霍尔离子源镀制高信耐性黑膜通过镀膜工艺控制膜层透过指标以达到不同的效果试验效果很好地满足客户要求工艺性能优质.

 

KRi 霍尔离子源应用于黑膜镀制

    客户打样指标要求:黑膜吸收92%~95.5%, 反射率8%~4.5%, HR 面反射率>95%@400~700nm上海伯东美国 KRI 霍尔离子源辅助沉积镀制增透吸收膜可以获得非常好的单质 SI 材料可见波段的吸收常数离子源辅助沉积过程稳定膜层致密性高, HR 膜更加得心应手加以合理工艺匹配可获得高信耐性、工艺性能良好的黑膜和 HR 使用离子源辅助的电子束蒸发来在不加热基板上进行蒸发可得到附着力良好遮盖力强材料可均匀融化工艺性能良好能很好地粘附于多种基底类型并表现出良好的环境稳定性的黑膜美国进口 KRI 霍尔离子源辅助镀制可达到行业好水准的效果.

 

    美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计高电流低能量宽束型离子源提供原子等级的细微加工能力霍尔离子源 eH 可以以纳米精度来处理薄膜及表面多种型号满足科研及工业半导体应用霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率低能量减少离子轰击损伤表面宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区整体易操作易维护.

 

霍尔离子源 eH 系列在售型号:

型号

eH400

eH1000

eH2000

eH3000

eH Linear

中和器

F or HC

F or HC

F or HC

F or HC

F

阳极电压

50-300 V

50-300 V

50-300 V

50-250 V

50-300 V

离子束流

5A

10A

10A

20A

根据实际应用

散射角度

>45

>45

>45

>45

>45

气体流量

2-25 sccm

2-50 sccm

2-75 sccm

5-100 sccm

根据实际应用

本体高度

3.0“

4.0“

4.0“

6.0“

根据实际应用

直径

3.7“

5.7“

5.7“

9.7“

根据实际应用

水冷

可选

可选

可选

根据实际应用

* F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

KRI 霍尔离子源其余相关应用:

美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用 (hakuto-china.cn)

KRI 考夫曼霍尔离子源辅助光学镀膜 (hakuto-china.cn)

伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用 (hakuto-china.cn)

KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜 (hakuto-china.cn)

 

相关产品:

美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 霍尔离子源 eH 2000 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear (hakuto-china.cn)

 

 

上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵真空规高真空插板阀等产品协助客户制造加工研发高质量的真空系统.
1978 
 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司研发制造加工考夫曼离子源霍尔离子源射频离子源美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

 

上海伯东是美国Gel-pak 芯片包装盒, 日本 NS 离子蚀刻机, 德国 Pfeiffer  真空设备, 美国  KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐                                   台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 108              T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1322                            F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 ( 微信同号 )      M: +886-939-653-958
qq: 2821409400 
www.hakuto-china.cn                        www.hakuto-vacuum.com.tw


现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶小姐 1391-883-7267
上海伯东版权所有, 翻拷必究!